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進口自(zì)動化反應器工作站

簡要描述:Radleys Mya 4自(zì)動化反應工作站可(kě)讓科學(xué)家在一(yī)台設備上實現對4個反應的(de)安全地(dì)加熱、實時冷卻、軟件控制和(hé)數據記錄功能,可(kě)用于進行24小時/7天無人值守的(de)實驗。

  • 産品型号:Radleys Mya 4
  • 廠商性質:代理(lǐ)商
  • 更新時間:2024-03-01
  • 訪  問  量:2572

詳細介紹

品牌其他品牌産地(dì)類别進口
應用領域化工

一(yī)台具備4個操作位點、提供安全、準确地(dì)加熱、實時冷卻、軟件控制和(hé)數據記錄的(de)24小時/7天無人值守的(de)自(zì)動化化學(xué)儀器。

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一(yī)台儀器,無限可(kě)能


4個獨立操作位點磁力&機械攪拌2ml~400ml
4-Positions-600x600.pngStirring-600x600.pngVessel-Range-600x600.png

兼具加熱、冷卻功能

每個位點可(kě)以獨立操作

标配磁力攪拌功能

可(kě)選配強勁的(de)Mya頂置式機械攪拌器
兼容廣泛的(de)反應瓶樣式和(hé)體積

自(zì)動化&數據記錄-30~180℃控制第3方設備
Data-Logging-600x600.pngHeating-and-cooling-600x600.png3rd-Party-Integration-600x600.png

軟件控制

進行24小時/7天無人值守的(de)化學(xué)實驗

模塊控溫、樣品控溫
相鄰位點間溫差可(kě)達200℃

電腦版軟件可(kě)控制:注射泵、蠕動泵、

pH計、真空泵等多種第3方設備


靈活多用

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更安全、更清潔、更環保、更高(gāo)效

  • 4個獨立操作位點,标配加熱、實時冷卻功能

  • 緊湊型設計,适用于多種實驗應用

  • 兼容多種多樣尺寸和(hé)形狀的(de)反應容器

  • 程序化控制您的(de)實驗,實時自(zì)動記錄實驗數據

  • 準确地(dì)溫度控制

  • 磁力攪拌,機械攪拌

  • 取代低(dī)效、雜亂和(hé)不安全的(de)油浴、幹冰浴

  • 更加節省實驗室空間

  • 兼容第3方設備:天平、泵和(hé)pH計等

  • 軟件控制,提高(gāo)安全性,減少人為(wèi)錯誤

  • 24小時/7天無人值守運行,提高(gāo)效率




主要特點



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歧管型 或 回流型 機頭


  • 水冷式

  • 內(nèi)置氣體回路,可(kě)用于填充惰性氣體

  • 歧管型機頭:

    将冷卻水分配至每個獨立的(de)冷凝管

    标配截止閥,防止倒流

  • 回流型機頭:

    直接對回流管內(nèi)的(de)蒸汽進行冷凝

  • 無需外接冷凝管,便于使用


磁力攪拌 或 機械攪拌


  • 标配磁力攪拌功能:100~1000rpm

  • 可(kě)選配Mya頂置式機械攪拌器

  • 強勁地(dì)攪拌

  • 轉速範圍:100~1000rpm

  • 無需工具即可(kě)安裝

  • 每個位點的(de)轉速獨立控制

  • 相鄰位點可(kě)分别使用磁力攪拌或機械攪拌,互不影響


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可(kě)選多種多樣尺寸和(hé)形狀的(de)反應容器


從2ml~400ml,樣品瓶、試管、圓底燒瓶和(hé)過程釜體


  • 樣品瓶和(hé)試管:2ml~20ml

  • 圓底燒瓶:25~250ml

  • 過程釜體:50~400ml

  • 多口釜蓋:3口或5口

  • 其他配件


Mya 4控制選項


24小時/7天無人值守地(dì)進行您的(de)實驗,可(kě)選的(de)操作系統:

  • 觸摸控制面闆:儀器标配

  • 可(kě)選的(de)PC控制軟件:用于控制第3方設備





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根據您的(de)需求配置Mya 4



您可(kě)以靈活地(dì)配置Mya 4的(de)各類配件,用以适配您的(de)各類實驗


  • 選擇歧管型或回流型機頭,或者不使用機頭

  • 選擇反應容器的(de)形狀和(hé)尺寸

  • 選擇跟反應容器适配的(de)插件

  • 選擇多口釜蓋或者回流管

  • 選擇頂置式機械攪拌器、攪拌槳或者磁力攪拌子(zǐ)

  • 選擇其他配件(溫度探針、玻璃配件等)

  • 選擇PC控制軟件




工藝套裝

小試套裝

其他配置

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配置:歧管式機頭

過程釜體

配置:回流式機頭

圓底燒瓶

配置:

樣品瓶和(hé)試管


靈活多用,廣泛适用于從小試研發到工藝開發的(de)衆多實驗應用

  • 工藝開發

  • DOE實驗

  • 實驗放大

  • 結晶研究

  • 晶型篩選

  • 先導物研究

  • 平行實驗

  • 實驗優化

  • 溶劑、催化劑篩選

  • 路線研究


小結
4個獨立操作位點

——可(kě)同時使用1,2,3或4個位點

——平行操作4個位點,或由多個使用者分别獨立操

準确地(dì)溫度控制

——溫度控制範圍:-30~180℃

——相鄰位點間溫差可(kě)達200℃

——每個位點的(de)溫度獨立控制

——可(kě)選擇控制模塊溫度或樣品溫度

使用自(zì)來水或冷水機

——Mya 4使用先進的(de)半導體制冷技術,可(kě)快速制冷至-30℃

——半導體芯片需要自(zì)來水或冷水機來帶走熱端熱量,以持續制冷



冷卻源 自(zì)來水(15℃) 冷水機(5℃)

最di模塊溫度 -25℃ -35℃

最di樣品溫度 -20℃ -25℃


磁力攪拌或機械攪拌

——标配磁力攪拌功能,轉速範圍:100~1000rpm

——可(kě)選配Mya頂置式機械攪拌器,轉速範圍:100~1000rpm

——每個位點的(de)轉速獨立控制

——相鄰位點可(kě)分别使用磁力攪拌或機械攪拌,互不影響







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